China a construit un prototip de mașină de litografie cu ultraviolete extreme (EUV) în orașul Shenzhen, un echipament esențial pentru fabricarea celor mai avansate cipuri semiconductoare, relatează Reuters. Tehnologia EUV este considerată un element-cheie în producția de procesoare de ultimă generație.
Până în prezent, compania olandeză ASML este singurul producător care a reușit să dezvolte și să comercializeze sisteme EUV funcționale. Aceste echipamente au un cost estimat la aproximativ 250 de milioane de dolari bucata și sunt utilizate în fabricarea celor mai avansate cipuri proiectate de companii precum Nvidia și AMD și produse de TSMC, Intel și Samsung.
Potrivit Reuters, realizarea prototipului chinez marchează rezultatul unui program guvernamental desfășurat pe parcursul a șase ani, axat pe obținerea independenței în domeniul semiconductorilor. Surse citate de agenția de presă au comparat amploarea și importanța acestui program cu „versiunea Chinei a Proiectului Manhattan”, programul american din timpul celui de-al Doilea Război Mondial care a dus la dezvoltarea bombei atomice.
Sursele afirmă că prototipul dezvoltat în China este capabil să genereze lumină EUV și se află în faza de testare. Cu toate acestea, echipamentul nu a fost utilizat încă pentru a produce cipuri funcționale. Conform informațiilor disponibile, intervalul 2028–2030 este menționat ca posibil orizont de timp pentru obținerea unor rezultate operaționale.
Reuters mai notează că persoane familiarizate cu proiectul susțin că foști ingineri ai companiei ASML ar fi contribuit la procesul de analiză și reproducere a unor componente ale sistemului. De asemenea, Huawei este indicată drept un actor central în coordonarea unui efort mai amplu, care implică mai multe laboratoare de cercetare și furnizori din China.
Unul dintre interlocutorii citați de Reuters a declarat că obiectivul pe termen lung este ca China să poată produce cipuri avansate utilizând echipamente realizate integral pe plan intern. Aceeași sursă a afirmat că autoritățile chineze urmăresc eliminarea completă a dependenței de Statele Unite în lanțurile lor de aprovizionare din domeniul semiconductorilor.
Informațiile prezentate indică faptul că proiectul se află într-un stadiu incipient și că există diferențe semnificative între realizarea unui prototip capabil să genereze lumină EUV și producția industrială de cipuri avansate. Reuters subliniază că, în acest moment, mașina dezvoltată în China nu a demonstrat capacitatea de a fabrica cipuri comparabile cu cele realizate folosind echipamentele ASML.
Dezvoltarea prototipului are loc pe fondul eforturilor continue ale Chinei de a-și consolida capacitățile interne în domeniul semiconductorilor, într-un context marcat de restricții tehnologice și comerciale impuse de Statele Unite și aliații acestora.
Sursă:
Reuters
